微纳光学公共平台为苏州大学光电科学与工程pg电子十倍金牛下设科研机构,依托于江苏省“微纳光学”优势学科(2010批准建立)、江苏省现代光学技术重点实验室(2000年批准建立)、省部共建教育部现代光学技术重点实验室(2003年批准建立)、江苏省先进光学制造技术重点实验室(2007年批准建立),主要从事先进光学设计与制造、微纳制造技术与装备、光子器件及其相关领域关键技术的研究与产业化应用。
平台实验室总面积达5000平方米,其中千级超净间面积超3000平方米。目前拥有聚焦离子束刻蚀(Crossbeam550)、扫描电镜(Sigma 300)、原子力显微镜(Dimensioin Icon)、大型紫外光激光直写3D光刻设备(iGrapher)等一系列微纳加工、制造先进设备。本平台现热忱欢迎科研院所、企事业单位和社会各界的专业人士光临,我们将竭诚为您提供专业服务与高质量的测试结果,希望能与您共同努力,充分发挥大型仪器资源共享的作用,联手为企事业与院校发展、地方经济建设等服务。欢迎有意向的单位及个人和我们联系:
电子邮件: nanoplatform@suda.edu.cn
联系电话:(0512) 65223039
联系人: 毕老师
pg电子十倍金牛:相关科研成果及部分仪器设备展示
近5年来,以本平台为依托,累计发表重要论文500余篇,申请并获得100余项各类科研项目资助(其中国家级项目30余项,省部级项目20余项),获包括国家科技进步二等奖在内的多项国家、省部级奖。研究成果被各国内外知名企业采用,促进了相关行业技术进步,经济效益显著。
在自主知识产权方面,申请国家发明专利授权60余项,完成重要项目鉴定和验收10余项,部分成果已完成行业转化。
聚焦离子束共焦刻蚀系统(FIB-SEM)
| 型号:Crossbeam 550 厂家:德国Zeiss 主要规格及技术指标: 扫描电子显微镜分辨率:1.6nm@1.5KV,0.9nm@15KV,0.7nm@30KV; 离子束刻蚀分辨率:小于3nm; 存储分辨率:32K×24K; 样品台运动行程:X-Y方向:100/153mm,z方向:50mm,z’方向:13/20mm,T=-4至70度,360度旋转; 单支气体注入系统:Pt、C; 多支气体注入系统:Pt、C、W、Au、H2O、SiOX、XeF2。
主要功能及特点: 利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工,可在极低的电压下实现高速率、大束流的样品处理,并保持样品质量; 可实现低于3nm的优异分辨率; 加大样品仓(153 mm)为您提供更多选择; 具有FIB束流自动恢复系统,从而满足长周期实验的需要; 可配合扫描电镜(SEM)等高倍数电子显微镜实时观察,在各种条件下保持高分辨特性,同时获取Inlens SE和Inlens ESB图像,完成纳米级分析、制造。
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扫描电镜(SEM)
| 型号:Sigma 300,Horiba HR320 厂家:德国Zeiss,日本Horiba 主要规格及技术指标: 扫描电子显微镜分辨率:1.6nm@1KV,1nm@15KV,1nm@30KV; 存储分辨率:32K×24K; 最大扫描速度:50ns/像素; 放大倍率:10~1,000,000×; 探针电流:3pA-20nA。
主要功能及特点: |
电子束刻蚀系统(EBL)
| 型号:PIONEER Two 厂家:德国Raith 主要规格及技术指标: 主要功能及特点: |
原子力显微镜(AFM)
| 型号:Dimension Icon 厂家:美国Bruker 主要规格及技术指标: X-Y方向扫描范围:典型值:90μm*90μm,最。85μm;XY方向定位噪音水平闭环控制< 0.15nm。 Z方向扫描范围:典型值:10μm,最。9.5μm;Z方向噪声水平闭环控制< 0.35 ?。 电动定位样品台(X-Y轴):180mm*180mm可视区域;单向2μm重复性;双向3μm重复性。 显微镜光学系统:五百万像素数字照相机,180μm至1465μm可视范围,数字缩放及自动对焦功能。
主要功能及特点: |
激光图形化直写设备(iGrapher)
| 型号: iGrapher200 厂家:中国苏大维格 主要规格及技术指标: 光学分辨率:0.1μm-0.25μm; 光刻幅面:200mm╳200mm; 基片尺寸:8" wafer; 最小线宽:1μm; 光刻速度:150 – 900 mm2/min。
主要功能及特点: |
光谱式椭偏仪 (SE)
| 型号: GES5E 厂家:法国Semilab 主要规格及技术指标: 测试速度:<1 sec(快速测试模式);<120 sec(高分辨率测试模式); 测量光谱分辨率:<0.5nm@633nm(高分辨率测试模式);<0.8nm@633nm(快速测试模式); 最大样品尺寸:300mm; 厚度测量范围:0.01nm-50μm; 厚度测试精度:0.02nm @120nm SiO2 on Si; 折射率测试精度:0.002 @120nm SiO2 on Si。
主要功能及特点: Semilab针对科研院所和企业研发中心推出的多功能桌面型旗舰产品; 基于椭圆偏振测试技术,采用先进的旋转补偿器; 采用了模块化的设计,可自由组合多种扫描和真空变温样品台,多种从135nm深紫外光谱至2400nm近红外光谱的探测器,多种测试光斑尺寸; 可拓展FTIR红外光谱测试模组、EPA薄膜孔隙率测试模组、涡电流法非接触方块电阻测试模组、Mueller Matrix各项异性材料测试模组、Raman结晶率测试模组、反射干涉测试模组、透射率和反射率测试模组等多种功能。
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